ケミカル汚染防止システム

インダストリアルクリーンルーム(ICR技術)|分子汚染対策技術

大気社の技術

インダストリアルクリーンルーム(ICR)技術とは?

先端の電子産業が要求する空気清浄度と高精度な温湿度・気流環境、分子汚染対策、微振動対策を省エネルギー、低コストに実現するための要素技術とトータルエンジニアリング。

分子汚染対策技術

ICRの生産環境において排除すべき分子汚染物質に対し、外気からの侵入防止、建築・設備材料からの発生防止、発生物質の早期除去などによる総合的な対策技術

こんな課題を解決できます

  • 有害物質・ウイルス除去したい
  • 生産性を高めたい

概要

当社は豊富なノウハウ、固有技術、独自データベースをもとに、高効率なケミカルエアワッシャの選定、適切なケミカルフィルタの選定により、お客さまのご要望に過不足ないケミカル汚染(気中分子汚染)対策クリーンルームをご提供することで、歩留り向上に貢献できます。
また、設計・施工技術によりお客さまのご要望に合わせたケミカル汚染物質の少ない資機材、材料の選定、工事中のケミカル汚染の早期排除が可能です。

分子汚染(ケミカル汚染)対策における当社のコンセプト

独自気中アウトガスデータベースから、実環境を想定しての室内濃度予測をし、適切な対策の検討を行う。独自材料アウトガスデータベース・ウエハ付着成分分析評価から分子污染発生の少ない使用材料を選定、ケミカルクリーンアップ施工から施工各段階における分子汚染早期排除を行い、分子汚染源の低減と早期排除を行う。大気社の多数実績と独自の実験データの活用から外気前段処理高効率エアワッシャ、最適なケミカフィルタの選定を行い、最適なケミカル低減装置を行う。

特長

  • クリーンルームの高精度な気中成分分析システム

    クリーンルームの気中化学成分による汚染要因として、「クリーンルーム構成材」「導入外気」「クリーンルーム内の人員」「プロセスガス・薬液」などがあり、これに対応した高精度な気中成分分析システムと当社が保有する豊富な独自データベースにより、お客さまごとに異なるケミカル汚染に対し、適切な対策案をご提案できます。なお、当社の気中成分分析システムは世界中どのクリーンルームでも分析可能です。

クリーンルームにおける発生化学成分

クリーンルームの気中化学成分汚染要因としては、「クリーンルーム構成材」「導入外気」「クリーンルーム内の人員」「プロセスガス・薬液」などがあります。クリーンルーム構成材などからの発生化学成分には次表のようなものがあります。

左右にスワイプ可能です

発生源 発生物質
外気 NOx・SOx・Na・Cl・Ca
プレフィルタ・中性能フィルタ(不織布非ガラス) P(難燃材としてのリン酸エステル)
HEPA&ULPA(ガラス繊維)・断熱消音材料 B・DBP・シロキサン・トルエン・キシレン・ベンゼン類…濾紙バインダー・ホットメルト・パッキンから発生
ケミカルフィルタ プロセス溶剤のPGMEAと塩基成分低減用ケミカルフィルタの酸性官能基が反応して酢酸が発生
EPDM(エチレンプロピレン・ジエンモノマー)ゴムパッキン パラフィン類
樹脂コート金属板(空調用機器類框体・コイルフィンなど) パラフィン・稀に多量の有機発生例あり
軟質樹脂シート(塩ビカーテン類) DBP・DOP・フェノール類・ベンゼン類・他数十種
電線被覆材(非エコケーブル) 有機燐・DOP(可塑剤)・シロキサン
電動機 シロキサン・ラッカー・潤滑用油脂類
塗料(帯電防止・防塵) 多種の金属イオン・ベンゼン類・脂肪族
間仕切壁(サンドイッチボード) エタノール他(焼き付け温度と時間の確認)
コンクリート NH3・Ca
シリコン系コーキング剤 シロキサン・アルデヒド類・ベンゼン類・トルエン・他
帯電防止材料(壁・床・生産機器框体) C・Na・NO2・Ca・Fe・K・Co・アミン類・スルホン酸・他
人間 NH3・アセトン・Na・Cl
靴・化粧品 多種の有機
加湿用蒸気 AMP(ボイラ用清かん剤として添加されている)